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预期偏弱,PVC期货月内重心下移
股期而遇
2023-04-01 16:39 ·
发布于 广东
· 财经作者
投资有风险,入市需谨慎
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设备国产化,任重而道远!
目前,全球半导体设备主要由美国和日本公司占据,美国占全球设备的70%(含光刻机),日本占25%。目前多数设备国产化率不足20%,任重而道远。光刻机:光刻是晶圆制造的核心工序,在整个硅片加工成本中占到1/3,主要使用光刻机和涂胶显影机。光刻机市场规模约115亿美元,市场上荷兰阿斯麦占比75%,日本尼康和佳能占比13%、6%。光刻机国产化率不到1%,A公司是国内技术最先进的光刻机厂商,但目前只能量产90nm光刻机,28nm光刻机正在研发中。涂胶显影机方面,B公司的前道Barc涂胶设备可以满足28nm工艺。刻蚀机:刻蚀是有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程,刻蚀机市场规模约120亿美元,市场上美国
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